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→ 会社概要 → 会社沿革
2008.04
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代表取締役にジュ・グァイル就任
2008.03
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秋八産業団地へとシリコン製造工場を移転
2007.12
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Si事業部の敷地買入
2006.12
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Si-Ingot工場の建設完了
2006.04
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エスエヌティー(株)から(株)ソルミックスへと社名変更
2006.02
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中国現地法人の設立
2005.11
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300万ドル輸出塔の受賞
2005.08
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Si –SICから売上げ発生
2005.02
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セラミックCold Spray Coatingの常用化
2004.11
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ISO 14001, OHSAS 18001認証取得,ISO 9001の取得
2004.09
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SEDEX 2004半導体産業での協会長賞の受賞
2004.03
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「第38回納税者の日」での大臣賞の受賞
2003.10
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有償増資の実施(資本金35億ウォン)
2003.08
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工場増築の完了、SiC量産化設備の導入
2003.02
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CIP成形装備の導入
2002.10
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アメリカ現地法人の設立
2002.08
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精密清浄事業への進出
2002.05
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部品・素材専門企業を確認、ベンチャー企業への登録
2001.12
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コスダック(KOSDAQ)に上場
2001.09
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日本現地法人の設立、100万ドル輸出塔の受賞
2001.05
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付設セラミック研究所の設立(第20011684号)
2000.11
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平澤工場の竣工及び本社移転
2000.04
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サンブ精密(株)-エスエヌティー(株)
1999.10
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国産化優秀業体賞の受賞(三星電子)
1999.08
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ISO9002認証取得
1997.10
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優良技術企業に指定(技術信用保証基金から)
1996.12
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現代電子、三星電子からの協力業者の指定
1995.08
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サンブ精密(株)法人設立(本社及び工場移転/京畿道 平澤市烏山)
1990.06
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サンブ精密(株)個人設立(ソウル堂山洞)